Desiderate effettuare un'analisi secondo ASTM F1710
Competenza nell'analisi di gas ad alta purezza per l'industria dei semiconduttori del laboratorio FILAB
L’industria della microelettronica e dei semiconduttori richiede livelli di purezza estremi per i gas utilizzati nei processi di produzione. La norma ASTM F1710 definisce protocolli rigorosi per il rilevamento e la quantificazione delle impurità in tracce. Il laboratorio FILAB vi affianca nella validazione della conformità dei vostri gas ad alta purezza.
Che cos'è la norma ASTM F1710?
La norma ASTM F1710 è un metodo di riferimento per l’analisi delle impurità gassose (come idrogeno, azoto, ossigeno, metano, monossido e anidride carbonica) nei gas elettronici ad alta purezza.
Si basa generalmente sull’uso di tecniche analitiche all’avanguardia come la cromatografia in fase gassosa accoppiata a diversi rivelatori.
Padronanza tecnologica: analisi tramite GC-MS
Per rispondere ai requisiti della norma ASTM F1710, il nostro laboratorio utilizza la Cromatografia in Fase Gassosa accoppiata alla Spettrometria di Massa (GC-MS). Questa tecnica consente di separare le molecole di gas e poi identificarle con precisione in base alla loro massa atomica.
Il laboratorio FILAB vi affianca nell'analisi secondo ASTM F1710
Perché effettuare le vostre analisi ASTM F1710 con FILAB
Rivolgersi a un laboratorio specializzato per l’applicazione della norma ASTM F1710 vi consente di:
Garantire le prestazioni dei vostri processi: evitare difetti sui pezzi legati alla contaminazione gassosa.
Assicurare la conformità del fornitore: verificare che i gas consegnati rispettino le specifiche di purezza ultra elevata (UHP).
Beneficiare di un limite di rilevamento ottimale: raggiungere soglie di rilevamento dell’ordine del ppb o del ppt.
I settori di applicazione
Sebbene sia destinata principalmente al settore dei semiconduttori, l’analisi secondo ASTM F1710 è essenziale per:
La produzione di componenti elettronici e microelettronici.
L’industria fotovoltaica.
La produzione di fibre ottiche.
I laboratori di R&D che lavorano sui nanomateriali.
Perché scegliere il laboratorio FILAB per le vostre analisi?
Rivolgersi a FILAB significa trasformare le vostre esigenze analitiche in leve di decisione strategica:
Esperienza riconosciuta: 45 anni di competenza in chimica fine e metallurgia avanzata.
Affidabilità garantita: Accreditamento ISO 17025 da parte di COFRAC (secondo il campo di applicazione disponibile su www.cofrac.fr).
Riconoscimento industriale: Partner di fiducia dei principali committenti (Safran, Dassault Aviation, Framatome, EDF…).
Profili esperti: Un team di 140 collaboratori composto in maggioranza da dottori e ingegneri.
Impegno RSE: Medaglia EcoVadis, a garanzia di pratiche responsabili.
Le nostre FAQ
Per ottenere un preventivo, potete contattare i nostri team tramite il modulo di contatto, per telefono o via e-mail.
Vi basta comunicarci la vostra esigenza (tipo di materiale, analisi desiderata, eventuale norma, urgenza, quantità di campioni…). Vi invieremo quindi una proposta tecnica ed economica personalizzata entro 24-48 ore.
I tempi variano in base alla natura dell'analisi e alla complessità del progetto di expertise.
FILAB si impegna tuttavia a fornire tempi rapidi e adatti ai vostri vincoli e alle vostre urgenze industriali.
La norma si applica principalmente ai gas ad alta purezza (UHP) utilizzati nell'elettronica, come l'Azoto (N2), l'Argon (Ar), l'Elio (He), l'Idrogeno (H2) e l'Ossigeno (O2). Consente di verificare che questi gas non contengano contaminanti critici.
Grazie all'uso di tecnologie come l'APIMS o la cromatografia avanzata, i limiti di rilevamento raggiungono generalmente il livello del ppb (parti per miliardo) e possono scendere fino al ppt (parti per trilione) per alcune impurità specifiche in condizioni rigorose.
ASTM F1710 è calibrata specificamente per le esigenze dell'industria dei semiconduttori. A differenza di un'analisi standard, impone protocolli di campionamento estremamente rigorosi per evitare che l'aria ambiente o le pareti dei contenitori contaminino il campione durante il test.
Anche una traccia infinitesimale di monossido di carbonio ($CO$) o di umidità ($H_2O$) può alterare le proprietà elettriche di un componente o provocare difetti cristallini sui wafer di silicio, causando perdite finanziarie significative.
