Sie möchten eine Analyse nach ASTM F1710 durchführen lassen
Expertise in der Analyse hochreiner Gase für die Halbleiterindustrie des FILAB-Labors
Die Mikroelektronik– und Halbleiterindustrie verlangt bei den in Fertigungsprozessen eingesetzten Gasen extrem hohe Reinheitsgrade. Die Norm ASTM F1710 legt strenge Protokolle für den Nachweis und die Quantifizierung von Verunreinigungen im Spurenbereich fest. Das FILAB-Labor unterstützt Sie bei der Validierung der Konformität Ihrer hochreinen Gase.
Was ist die Norm ASTM F1710?
Die Norm ASTM F1710 ist ein Referenzverfahren zur Analyse gasförmiger Verunreinigungen (wie Wasserstoff, Stickstoff, Sauerstoff, Methan, Kohlenmonoxid und Kohlendioxid) in hochreinen Elektronikgasen.
Sie basiert in der Regel auf dem Einsatz modernster Analysetechniken wie der Gaschromatographie gekoppelt mit verschiedenen Detektoren.
Technologische Kompetenz: Analyse per GC-MS
Um die Anforderungen der Norm ASTM F1710 zu erfüllen, verwendet unser Labor die Gaschromatographie gekoppelt mit Massenspektrometrie (GC-MS). Diese Technik ermöglicht es, Gasmoleküle zu trennen und sie anschließend anhand ihrer Atommasse präzise zu identifizieren.
Das FILAB-Labor unterstützt Sie bei der Analyse nach ASTM F1710
Warum Ihre ASTM-F1710-Analysen mit FILAB durchführen
Die Beauftragung eines spezialisierten Labors für die Anwendung der Norm ASTM F1710 ermöglicht Ihnen:
Die Leistungsfähigkeit Ihrer Prozesse sicherzustellen: Fehler an Bauteilen durch gasförmige Verunreinigungen zu vermeiden.
Die Lieferantenkonformität sicherzustellen: zu prüfen, ob die gelieferten Gase die Spezifikationen für ultrahohe Reinheit (UHP) erfüllen.
Von einer optimalen Nachweisgrenze zu profitieren: Nachweisgrenzen im Bereich von ppb oder ppt zu erreichen.
Anwendungsbereiche
Obwohl die Analyse nach ASTM F1710 hauptsächlich für den Halbleitersektor bestimmt ist, ist sie unerlässlich für:
Die Herstellung elektronischer und mikroelektronischer Bauteile.
Die Photovoltaikindustrie.
Die Produktion von Glasfasern.
F&E-Labore, die an Nanomaterialien arbeiten.
Warum das Labor FILAB für Ihre Analysen wählen?
Faire appel à FILAB, c’est transformer vos besoins analytiques en leviers de décision stratégique :
Expérience reconnue : 45 ans d’expertise en chimie fine et métallurgie de pointe.
Fiabilité garantie : Accréditation ISO 17025 par le COFRAC (selon portée disponible sur www.cofrac.fr).
Reconnaissance industrielle : Partenaire de confiance des grands donneurs d’ordres (Safran, Dassault Aviation, Framatome, EDF…).
Profils experts : Une équipe de 140 collaborateurs composée majoritairement de docteurs et d’ingénieurs.
Engagement RSE : Médaille EcoVadis, garantissant des pratiques responsables.
Unsere FAQ
Um ein Angebot zu erhalten, können Sie unsere Teams über unser Kontaktformular, telefonisch oder per E-Mail kontaktieren.
Teilen Sie uns einfach Ihren Bedarf mit (Materialart, gewünschte Analyse, gegebenenfalls Norm, Dringlichkeit, Anzahl der Proben …). Anschließend senden wir Ihnen innerhalb von 24 bis 48 Stunden ein individuelles technisches und preisliches Angebot zu.
Die Fristen variieren je nach Art der Analyse und der Komplexität des Expertisenprojekts.
FILAB verpflichtet sich jedoch, schnelle Fristen zu bieten, die an Ihre Anforderungen und industriellen Dringlichkeiten angepasst sind.
Die Norm gilt vor allem für hochreine Gase (UHP), die in der Elektronik verwendet werden, wie Stickstoff (N2), Argon (Ar), Helium (He), Wasserstoff (H2) und Sauerstoff (O2). Sie ermöglicht zu überprüfen, dass diese Gase keine kritischen Verunreinigungen enthalten.
Dank des Einsatzes von Technologien wie APIMS oder hochentwickelter Chromatographie erreichen die Nachweisgrenzen in der Regel das ppb-Niveau (parts per billion) und können unter strengen Bedingungen für bestimmte spezifische Verunreinigungen bis auf ppt-Niveau (parts per trillion) sinken.
ASTM F1710 ist speziell auf die Anforderungen der Halbleiterindustrie abgestimmt. Im Gegensatz zu einer Standardanalyse schreibt sie äußerst strenge Probenahmeprotokolle vor, um zu verhindern, dass Umgebungsluft oder die Wände der Behälter die Probe während der Prüfung verunreinigen.
Schon eine winzige Spur von Kohlenmonoxid ($CO$) oder Feuchtigkeit ($H_2O$) kann die elektrischen Eigenschaften eines Bauteils beeinträchtigen oder Kristalldefekte auf Siliziumwafern verursachen, was zu erheblichen finanziellen Verlusten führt.
