Vous souhaitez réaliser une analyse selon l'ASTM F1710
Expertise en analyse de gaz de haute pureté pour l’industrie des semi-conducteurs du laboratoire FILAB
L’industrie de la microélectronique et des semi-conducteurs exige des niveaux de pureté extrêmes pour les gaz utilisés dans les procédés de fabrication. La norme ASTM F1710 définit les protocoles rigoureux pour la détection et la quantification des impuretés à l’état de traces. Le laboratoire FILAB vous accompagne dans la validation de la conformité de vos gaz de haute pureté.
Qu'est-ce que la norme ASTM F1710 ?
La norme ASTM F1710 est une méthode de référence pour l’analyse des impuretés gazeuses (telles que l’hydrogène, l’azote, l’oxygène, le méthane, le monoxyde et le dioxyde de carbone) dans les gaz électroniques de haute pureté.
Elle repose généralement sur l’utilisation de techniques analytiques de pointe comme la chromatographie en phase gazeuse couplée à divers détecteurs.
Maîtrise technologique : analyse par GC-MS
Pour répondre aux exigences de la norme ASTM F1710, notre laboratoire utilise la Chromatographie en Phase Gazeuse couplée à la Spectrométrie de Masse (GC-MS). Cette technique permet de séparer les molécules de gaz puis de les identifier précisément selon leur masse atomique.
Le laboratoire FILAB vous accompagne dans l'analyse selon l'ASTM F1710
Pourquoi réaliser vos analyses ASTM F1710 avec FILAB
Faire appel à un laboratoire spécialisé pour l’application de la norme ASTM F1710 vous permet de :
Garantir la performance de vos procédés : éviter les défauts sur les pièces liés à la contamination gazeuse.
Assurer la conformité fournisseur : vérifier que les gaz livrés respectent les spécifications de pureté ultra-haute (UHP).
Bénéficier d’une limite de détection optimale : atteindre des seuils de détection de l’ordre du ppb ou ppt.
Les secteurs d'application
Bien que principalement destinée au secteur des semi-conducteurs, l’analyse selon l’ASTM F1710 est essentielle pour :
La fabrication de composants électroniques et microélectroniques.
L’industrie photovoltaïque.
La production de fibres optiques.
Les laboratoires de R&D travaillant sur les nanomatériaux.
Pourquoi choisir le laboratoire FILAB pour vos analyses ?
Faire appel à FILAB, c’est transformer vos besoins analytiques en leviers de décision stratégique :
Expérience reconnue : 45 ans d’expertise en chimie fine et métallurgie de pointe.
Fiabilité garantie : Accréditation ISO 17025 par le COFRAC (selon portée disponible sur www.cofrac.fr).
Reconnaissance industrielle : Partenaire de confiance des grands donneurs d’ordres (Safran, Dassault Aviation, Framatome, EDF…).
Profils experts : Une équipe de 140 collaborateurs composée majoritairement de docteurs et d’ingénieurs.
Engagement RSE : Médaille EcoVadis, garantissant des pratiques responsables.
Notre FAQ
Pour obtenir un devis, vous pouvez contacter nos équipes via notre formulaire de contact, par téléphone ou par e-mail.
Il vous suffit de nous transmettre votre besoin (type de matériau, analyse souhaitée, norme éventuelle, urgence, quantité d’échantillons…). Nous vous envoyons ensuite une proposition technique et tarifaire personnalisée en 24-48H.
Les délais varient selon la nature de l’analyse et la complexité du projet d’expertise.
FILAB s’engage toutefois à fournir des délais rapides et adaptés à vos contraintes et urgences industrielles.
La norme s'applique principalement aux gaz de haute pureté (UHP) utilisés dans l'électronique, tels que l'Azote (N2), l'Argon (Ar), l'Hélium (He), l'Hydrogène (H2) et l'Oxygène (O2). Elle permet de vérifier que ces gaz ne contiennent pas de contaminants critiques.
Grâce à l'utilisation de technologies comme l'APIMS ou la chromatographie de pointe, les limites de détection atteignent généralement le niveau du ppb (partie par milliard) et peuvent descendre jusqu'au ppt (partie par trillion) pour certaines impuretés spécifiques sous conditions strictes.
L'ASTM F1710 est spécifiquement calibrée pour les besoins de l'industrie des semi-conducteurs. Contrairement à une analyse standard, elle impose des protocoles de prélèvement extrêmement rigoureux pour éviter que l'air ambiant ou les parois des contenants ne polluent l'échantillon pendant le test.
Même une trace infime de monoxyde de carbone ($CO$) ou d'humidité ($H_2O$) peut altérer les propriétés électriques d'un composant ou provoquer des défauts cristallins sur les wafers de silicium, entraînant des pertes financières importantes.
