En tant qu'industriel vous souhaitez réaliser une analyse de métaux lourds selon la norme ISO 21392
Que dit la norme ISO 21392 ?
La norme ISO 21392 « Cosmétiques – Méthodes d’analyses – Mesurage des éléments traces métalliques par ICP-MS dans les produits finis cosmétiques » fournit une méthode de dosage des teneurs en éléments traces métalliques dans les produits finis cosmétiques.
Cette méthode d’analyse ne traite que du chrome, du cobalt, du nickel, de l’arsenic, du cadmium, de l’antimoine et du plomb mais elle peut s’appliquer à d’autres métaux lourds.
C’est la technique de spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif (ICP-MS), après digestion sous pression de l’échantillon, qui est utilisée.
Pourquoi réaliser une analyse selon la norme ISO 21392 ?
Les industriels de la cosmétique sont tenus de respecter cette norme afin de garantir la qualité des produits, la sécurité des consommateurs, et la conformité réglementaire. La norme ISO 22716 qui fournit des lignes directrices sur les bonnes pratiques de fabrication (BPF) des produits cosmétiques, joue elle aussi un rôle essentiel dans l’industrie cosmétique.
Comment FILAB vous accompagne dans le dosage des métaux lourds selon l'ISO 21392
Pourquoi choisir FILAB ?
Depuis octobre 2015, le laboratoire FILAB est d’ailleurs accrédité COFRAC ISO 17025 pour le dosage de traces métalliques dans les produits finis cosmétiques.
Le laboratoire FILAB met à votre disposition son expertise et son parc analytique de pointe (ICP-MS, ICP-AES, analyseur de mercure/amalgameur) pour l’analyse élémentaire des métaux lourds (plomb, mercure, arsenic, cadmium, nickel, antimoine…) selon la norme ISO 21392:2021.
Nos prestations associées
Le laboratoire FILAB vous accompagne également sur les prestations suivantes :
Dosage de substances à risques : métaux lourds, nitrosamines, bisphénol A, phtalates,...
Résolution de problèmes : dépôt, changement de couleur, problème d'odeur...
Dosage de filtres solaires et conservateurs
Développement de méthode de dosage sur-mesure par LC-UVMS, GCMS, ICP, CLI...
