Do you need ICP-AES / ICP-OES analysis?
What is ICP-AES / ICP-OES analysis?
ICP-AES / ICP-OES are inductively coupled plasma analytical techniques paired with Atomic Emission Spectrometers.
These detectors measure the wavelength of the light emitted by ions. The combination of ICP-AES and ICP-MS makes it possible to determine a wide range of inorganic elements or elemental impurities.
ICP AES Analysis
ICP-AES is an elemental analysis method by atomic emission spectrometry. It enables precise measurement of the metal content and other elements in a wide variety of matrices, whether liquid, solid, or in solution.
ICP OES Analysis
Also called ICP-OES for Optical Emission Spectrometry, this technique is based on the same principle as ICP-AES. It is used for fast and reliable multi-element analysis, especially when high precision is required at trace levels, in fields such as metallurgy, pharmaceuticals, cosmetics, or the environment.
Why use ICP-AES / ICP-OES?
In industry, controlling elemental composition is essential at several stages:
Contrôle matière première
Détection d’impuretés métalliques
Validation de conformité
Suivi de procédés
ICP-AES / OES is preferred when it comes to meeting strict regulatory requirements (ISO, ICH Q3D, USP, etc.), avoiding quality or safety risks, or optimizing complex formulations. It is a precise analytical response to challenges related to performance, traceability, and competitiveness.
The FILAB laboratory supports you with ICP-AES / ICP-OES analysis
FILAB is equipped with several ICP-AES / ICP-OES systems
Depuis plus de dix ans, le laboratoire FILAB a développé de nombreuses compétences en analyses chimiques dans le domaine des analyses par ICP. Notre laboratoire dispose d’un parc analytique de pointe et des compétences humaines de haut niveau afin d’offrir à ses clients des services répondant à leurs besoins dans le cadre d’analyses par ICP-AES / ICP-OES.
Our ICP-AES/ICP-OES analysis services
Determination of the nature of elemental impurities
Analysis of the chemical composition of materials:
- Metals and alloys : determination of the content of major and trace elements in metals and alloys. For example, the analysis of steels, aluminum alloys, or superalloys used in aerospace.
- Polymer and composite materials : identification and quantification of additives and trace elements in plastics and composites
Analysis and control of chemical substances and materials (polymers, metal...)
Trace element analysis
Quality control and compliance:
- Pharmaceutical industry : analysis of raw materials and finished products to ensure compliance with specifications and regulations (for example, the detection of metallic contaminants).
Industrial and process analysis:
- Chemical industry : control of the purity of chemicals and raw materials. Detection of impurities in acids, solvents, and other industrial chemicals.
- Semiconductor industry : control of metallic contaminants in materials used for the manufacture of electronic components
Our expertise
Valider les protocoles selon les guidelines en vigueur
Transférer les méthodes dans vos laboratoires
Former vos équipes (sur place ou à distance)
The objectives of ICP-OES analysis
Analyse ICP-OES
Identifier et quantifier les éléments chimiques présents dans une matrice (métaux, semi-métaux, non-métaux), qu’ils soient majeurs, mineurs, traces ou ultra-traces.
Contrôler la composition des matières premières, produits finis ou intermédiaires, afin d’assurer leur conformité avec des spécifications techniques ou réglementaires (normes ISO, pharmacopées, directives environnementales…).
Détecter la présence d’impuretés métalliques ou de contaminants indésirables dans des formulations sensibles (produits pharmaceutiques, cosmétiques, etc.).
Optimiser et valider des procédés industriels grâce à un suivi précis des éléments chimiques en production.
Appuyer la R&D dans le développement de nouveaux matériaux ou produits nécessitant une caractérisation chimique fine.
FAQ
L’ICP-OES mesure la lumière émise par les atomes excités dans le plasma, tandis que l’ICP-MS mesure leur masse après ionisation. L’ICP-OES est idéale pour des concentrations de l’ordre du ppm, avec une très bonne robustesse sur matrices complexes.
L’ICP-MS, plus sensible, est utilisée pour les ultra-traces (ppb à ppt), mais plus sensible aux interférences. Le choix dépend donc du niveau de détection attendu et du type de matrice.
Les limites de détection typiques varient selon les éléments et les conditions, mais se situent généralement entre 0,01 et 1 ppm. L’ICP-OES convient donc parfaitement pour le contrôle de composition, les impuretés à seuil réglementaire, ou les analyses de routine avec exigences de précision.
L’ICP-OES permet l’analyse de plus de 70 éléments du tableau périodique, notamment les métaux alcalins, alcalino-terreux, les métaux de transition, ainsi que certains non-métaux comme le phosphore, le soufre ou le silicium. Cette large couverture élémentaire en fait une technique de choix pour les analyses multi-éléments.
Nous analysons des échantillons solides, liquides ou en solution après préparation : alliages, poudres, polymères, huiles, eaux, matières premières pharmaceutiques, extraits cosmétiques, etc. Notre laboratoire s’adapte à vos matrices, même complexes.
Oui, selon la nature de l’échantillon, une mise en solution ou une digestion acide est nécessaire avant injection dans le plasma. Notre laboratoire adapte les protocoles de préparation (minéralisation, dilution, filtration…) pour garantir une mesure optimale, même sur des matrices complexes (métaux, polymères, cosmétiques, etc.).
L’analyse ICP-AES ou ICP OES est particulièrement avantageuse pour les secteurs industriels exigeant une analyse élémentaire précise, rapide et multiéléments, notamment la pharmacie, la métallurgie, la cosmétique.
Elle permet de quantifier avec fiabilité des traces de métaux ou d’éléments légers dans des matériaux variés : alliages métalliques, polymères, verres, résidus de fabrication, eaux, poudres ou formulations liquides.
Plus sensible que la fluorescence X pour les faibles teneurs, l’ICP-AES/OES s’impose comme la solution idéale pour répondre aux exigences réglementaires (ICH Q3D, USP, REACH…) et garantir la qualité, la sécurité et la conformité des produits industriels.