Les nouveaux chapitres de l’USP

L’USP (U.S Pharmacopeial Convention) a publié le 1er février 2013 deux nouveaux chapitres : 232 et 233 relatifs à l’analyse des impuretés élémentaires dans les produits pharmaceutiques tels que les principes actifs, les excipients et les produits finis.

Ces deux chapitres concernent notamment le dosage des métaux lourds par ICP/AES et ICP/MS afin de doser de manière spécifique les impuretés, le but étant de rassurer les consommateurs contre toute exposition nuisible à leur santé.

Le chapitre 232 décrit les teneurs limites acceptables et le chapitre 233 décrit deux méthodes analytiques par ICP/AES (Procedure 1) et par ICP/MS (Procedure2).

L’application de ces deux nouveaux chapitres est prévue pour mai 2014. A cette date, les laboratoires d’analyses devront appliquer les nouvelles méthodes.

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